随着先进制程向5nm及以下进化，EUV成为未来光刻技术和先进制程的核心，目前全球仅ASML一家能够制造。富凯表示，美国对EUV设备的出口禁令导致中国无法获取尖端光刻机，这严重影响了中国芯片制造技术的发展。

富凯指出，尽管中国一些企业在半导体领域取得了显著的进步，但与行业内的领头羊如Intel、台积电和三星相比，仍然存在10-15年的技术差距。这一观点不仅揭示了全球芯片制造技术的分布现状，也反映了中国在全球半导体产业链中所面临的挑战。

美国媒体Barron表示，随着出口管制的加强，中国芯片制造商已做出战略决策，主宰芯片制造的低端市场。无论美国如何回应，这都会给西方科技公司带来风险。

“美国和荷兰通过禁止ASML向中国出口先进的EUV系统，使得中国（芯片制造技术）落后于西方10年或15年（ASML用超过20年才建立EUV生态）。这真的很有效果。”Fouquet ...

美国出口管制持续升级，大陆转而专注在成熟晶片制造领域，《巴伦周刊》撰文分析，美国最新宣布对大陆制造的成熟制程半导体发动「301调查」，反而将衝击西方科技公司，包括艾司摩尔（ASML）与同行大部分收入恐因此蒸发。

ASML全球副总裁、中国区总裁沈波早前向硅基世界透露， 到2023年底，ASML在中国的光刻机加上量测的机台装机量接近1400台。基于对产能的判断，ASML目标是在2025年底或2026年初，具备全球每年500台-600台深紫外（DUV）的设备产能。

“美国和荷兰通过禁止ASML向中国出口先进的EUV系统，使得中国（芯片制造技术）落后于西方10年或15年（ASML用超过20年才建立EUV生态）。这真的很有效果。”Fouquet ...

近日，荷兰光刻机巨头ASML的首席执行官Christophe Fouquet接受了媒体专访，分享了他的职业生涯历程以及在担任CEO期间所面临的挑战。在采访中，Fouquet谈到了地缘政治对ASML业务的影响，特别是针对中国市场的情况。

半导体设备龙头艾司摩尔执行长 Christophe Fouquet近日受访时提到，目前大陆主要的晶片生产商虽然取得不错的进展，但是在EUV设备禁令下，与西方国家仍有10至15年的差距。Christophe Fouquet指出，虽然目前大陆的中芯 ...

ASMLCEO谈中国和西方芯片制造差异！ASML ...

通过取消非员工订单，ASML能够更好地控制这款乐高模型的供需关系。如果不加以限制，可能会导致供应远远跟不上需求，从而引发一系列诸如生产压力过大、质量难以保证等问题。现在限制为员工购买，可以根据内部员工的数量进行更精准的生产和供应安排，确保在满足员工需求的同时，维持产品的稀缺性和独特性。

面对技术封锁和地缘政治挑战，俄罗斯正积极寻求独立发展相关技术。国际电子商情20日从外媒获悉，俄罗斯计划自主开发EUV光刻机，目标是制造出比ASML光刻机更经济、更易于制造的设备…… ...