在半导体制造过程中，化学机械抛光（CMP）工艺是实现晶圆表面平坦化的核心环节，而CMP浆料（Slurry）的洁净度直接影响抛光效果与晶圆良率。CMP清洗过滤作为保障Slurry性能的关键工序，通过去除浆料中的大颗粒杂质、维持颗粒分布均匀性，为后续工艺的稳定性 ...

川盈科技PROTON系列全自动CMP后清洗机机台特色：l工艺能力强，与AMAT体系中的ONTRAK系列同等水准l双腔刷洗，工艺适用性宽泛l设备占地小，尺寸为2200*800*2200（mm） l支持Stand Alone 或 可与CMP整合在一起使用应用领域：l6&8英寸 CMP后清洗lSiC 或其它衬底抛光后清洗主要 ...

韩国上市公司、显示与半导体化学品龙头，全球功能性湿电子化学品市占率第一的东进世美肯于9月1日发布公告称，将其中国十家工厂以2.6亿美金的价格出售给初芯光电产业投资基金与青岛董家口发展集团。

证券之星消息，2025年9月11日华海清科（688120）发布公告称公司于2025年9月11日召开业绩说明会。 具体内容如下： ...

汉江上游晚更新世以来气候演变特征:来自朱家村剖面土壤地球化学的证据赵超,1,魏翔,2,*,孙建伟1, 龚文强1, 赵浩1, 李晓明1, 郑俭峰1, 赵立磊11.中国地质调查局西安矿产资源调查中心,陕西 西安 7101002.中国地质调查局发展研究中心,北京 ...

先进封装检测领域的探讨同样聚焦产业痛点。南京中安半导体设备有限责任公司副总初新堂以《面向先进制程的颗粒检测设备的开发及应用》为主题，强调在先进芯片制造领域，微小颗粒的污染可能引发严重缺陷，尤其是＜15nm ...

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导读THECAPITAL深耕本土，定义湿电子化学品未来本文1049字，约1.5分钟韩国上市公司、显示与半导体化学品龙头，全球功能性湿电子化学品市占率第一的东进世美肯于9月1日发布公告称，将其中国十家工厂以2.6亿美金的价格出售给初芯光电产业投资基金与 ...