CMP抛光液，由超细固体粒子研磨剂、氧化剂、表面活性剂、稳定剂等物质组成。CMP抛光液中发挥主要作用的是固体粒子研磨剂和氧化剂，固体粒子研磨剂一般为纳米级，发挥研磨作用，氧化剂发挥腐蚀溶解作用。抛光液浓度、研磨剂种类和大小、酸碱性、流速等 ...

1.1. CMP 工艺是晶圆全局平坦化的关键工艺 晶圆制造流程可以广义地分为晶圆前道和后道 2 个环节，其中前道工艺在晶圆厂中进行，主要负责晶圆的加工制造，后道工艺在封测厂中进行，主要负责芯片的封装测试，其中，化学机械抛光（CMP）是实现晶圆全局平坦化 ...

行业主要上市公司：安集科技(688019)、上海新阳(300236)、鼎龙股份(300054)、万华化学(600309)等 本文核心数据：安集科技和上海新安纳专利申请数量、专利市场价值、重点专利布局 全文统计口径说明：1)搜索关键词：CMP抛光液及与之相近似或相关关键词;2)搜索范围 ...

行业主要上市公司：安集科技(688019)、上海新阳(300236)、鼎龙股份(300054)、万华化学(600309)等 CMP抛光液，由超细固体粒子研磨剂、氧化剂、表面活性剂、稳定剂等物质组成。CMP抛光液中发挥主要作用的是固体粒子研磨剂和氧化剂，固体粒子研磨剂一般为纳米级 ...

20世纪90年代初期，光刻对平坦度日益迫切的要求，催生了化学机械平坦化（CMP）工艺，它开始被用于后端（BEOL）金属连线层间介质的平整，当时还是一个不被看好的丑小鸭。然而随着时光的流逝，丑小鸭却越来越显现出她独特的魅力。 20世纪90年代中期，浅槽 ...

鼎龙股份近期接受投资者调研时称，2022年度，公司已有数款CMP抛光液产品在客户端规模化销售，铜制程CMP后清洗液也持续获得客户订单，合计实现销售收入1789万元，进入销售放量的阶段。2023年度，随着其他各制程CMP抛光液、清洗液产品覆盖全国多家客户进入 ...

毅达资本合伙人袁亚光介绍，在中国半导体行业实现进口替代、本土新晶圆厂产线快速扩张的大背景下，国内半导体设备行业正迎来历史性窗口期。 投资界（ID：pedaily2012）11月4日消息，近日，毅达资本联合宁波工投集团领投杭州众硅电子科技有限公司（以下 ...

2）显示材料光刻胶，业绩表现稳健 ... 预计25年下半年可实现全面量产，市场份额有望进一步提升。 3）CMP抛光垫业务进展顺利，实现量产出货。公司可实现年产25万片半导体芯片先进抛光垫项目，截至报告期末，已经完成产线建设和生产验证，并在25年上半年 ...

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NVIDIA 2月份就宣布了CMP HX系列专用矿卡，原计划第一季度首先上市30HX、40HX两款低端型号，第二季度再跟进50HX、90HX两款中高端型号，还有顶级的GA100大核心的170HX。 不过迄今为止，只有技嘉、华硕发布了自己的30HX，其中华硕的标价高达799美元，约合人民币5200元。